工業(yè)級(jí)變頻冷水機(jī)組丨晶圓制造±0.1℃刻蝕/鍍膜工藝用冷卻方案

2025年3月25日 245

晶圓制造±0.1℃刻蝕/鍍膜工藝用冷卻

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半導(dǎo)體chiller在刻蝕工藝中應(yīng)用的好處

2025年3月14日 325

無(wú)錫冠亞半導(dǎo)體Chiller能夠適應(yīng)不同的刻蝕工藝需求，無(wú)論是濕法刻蝕還是干法刻蝕，都能提供所需的溫度控制。

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等離子刻蝕冷卻chiller廠(chǎng)家介紹常見(jiàn)刻蝕工藝類(lèi)型有哪些？

2025年3月4日 219

刻蝕工藝是半導(dǎo)體制造中用于在硅片上形成微細(xì)結(jié)構(gòu)的關(guān)鍵步驟，常見(jiàn)的刻蝕工藝類(lèi)型包括哪些呢？接下來(lái)，等離子刻蝕冷卻chiller廠(chǎng)家冠亞恒溫為您介紹： 濕法刻蝕（Wet Etching）：利用化學(xué)溶液去除硅片上的材料。這種方法成本較低，適合于較不敏感的工藝...

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刻蝕工藝溫控裝置chiller應(yīng)用案例

2025年2月26日 234

刻蝕工藝是半導(dǎo)體制造過(guò)程中的步驟之一，它涉及使用化學(xué)或物理方法去除硅片上的特定材料層。在這個(gè)過(guò)程中，準(zhǔn)確的刻蝕工藝溫控裝置chiller對(duì)于確?？涛g質(zhì)量和生產(chǎn)效率比較重要。 案例一：集成電路（IC）制造中的刻蝕 應(yīng)用描述：在集成電路（IC）...

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