半導體溫控裝置Chiller 主要應用與半導體生產過程中及測試環(huán)節(jié)的溫度精準控制,產品有流體氟化液控溫(最低-100度)、氣體冷熱快速溫變、快速溫變卡盤、低溫氣體制冷機(-120度)、直冷型制冷機組(-150度)等。公司在系統(tǒng)中應用多種算法(PID、前饋PID、無模型自建樹算法),實現系統(tǒng)快速響應、較高的控制精度。
| 型號 | FLTZ-002 FLTZ-002W | FLTZ-003 FLTZ-003W | FLTZ-004 FLTZ-004W | FLTZ-006 FLTZ-006W | FLTZ-008 FLTZ-008W | FLTZ-010 FLTZ-010W | FLTZ-015 FLTZ-015W |
| 溫度范圍 | 5℃~90℃ | ||||||
| 控溫精度 | ±0.1℃(可定制±0.01℃控溫精度設備) | ||||||
| 制冷量at10℃ | 6kW | 8kW | 10kW | 15kW | 20kW | 25kW | 40kW |
| 內循環(huán)液容積 | 4L | 5L | 6L | 8L | 10L | 12L | 20L |
| 膨脹罐容積 | 10L | 10L | 15L | 15L | 20L | 25L | 35L |
| 制冷劑 | R410A | ||||||
| 載冷劑 | 硅油、氟化液、乙二醇水溶液、純凈水等(純凈水溫度需要控制10℃以上) | ||||||
| 進出接口 | Rc1/2 | Rc1/2 | Rc3/4 | Rc3/4 | Rc3/4 | Rc1 | Rc1 |
| 冷卻水口 | Rc1/2 | Rc1/2 | Rc3/4 | Rc1 | Rc1 | Rc1 | Rc1 1/8 |
| 冷卻水流量at20℃ | 1.5m3/h | 2m3/h | 2.5m3/h | 4m3/h | 4.5m3/h | 5.6m3/h | 9m3/h |
| ?藝過程溫度控制 | 可根據?創(chuàng)?模型?建樹算法和串級算法相結合來控制遠程?標溫度(動態(tài)控溫) | ||||||
| 外形尺寸 cm | 97*40*108 | 97*40*108 | 97*40*108 | 105*43*140 | 105*43*140 | 108*60*150 | 108*60*150 |

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